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高岭土的插层改性

时间:2014-05-08 09:50:19

作者:世邦机器

插层改性

关于高岭土加工工艺有机插层的研究工作较早起始于20世纪中期,但在短短的几十年中,其已经成长为一个吸引着众多研究者、极富生命力的研究领域。形成的复合物与传统的复合材料不同,其微区为(001)方向上的二维有机-无机复合纳米层,其特殊的结构使其会产生一些本体所不具备的特异性质。

插层法是目前较有希望也是较有效的制备纳米级高岭土的技术。正如上面所述,高岭土的主要矿物成分为高岭石,其层间是由一层铝氧八面体的羟基和一层硅氧四面体的氧原子形成氢键而结合在一起的。研究发现,有些极性小分子能够破坏或是削弱其层与层之间的氢键,从而进入高岭石层间,使其层间距充分扩大,从而达到层与层剥离。与蒙脱石不同,高岭石层间缺乏可交换的阳离子,层间域两面原子的不对称分布使层间显极性,因此只有极性较强的有机/无机小分子才可直接进入高岭石层间并与之发生相互作用,撑开高岭石片层。在插层过程中,有机/无机小分子在高岭石层间的排列趋向更加有序,这在热力学方面是一个递减化学反应过程。因此高岭石插层从热力学角度分析是很难进行的化学反应过程,需要一定的条件才可进行。

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直接插层法:一般高岭土的层间距D001=0.72nm,只有几种分子量孝极性较强的小分子能够直接插入其层间,如甲酰胺、甲基甲酰胺(NMF):二甲基亚砜(DMSO)、肼、尿素、乙酸钾、氟化铯等。

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